抢先台积电一步!三星全球首款3纳米芯片出厂

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7月25日,三星电子在京畿道华城厂区内的极紫外光刻(EUV)专用V1生产线举行了适用新一代全环绕栅极(GAA)技术的3纳米芯片产品出厂纪念活动。三星电子上月底宣布全球首款基于GAA技术的3纳米工艺半导体产品投入量产。

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